Canon

キヤノンアネルバ株式会社

  • English
  • サイトマップ
  • 製品情報
  • 保守サービス
  • お知らせ
  • 会社情報
  • お問い合わせ
  • キヤノンアネルバトップ
  • 製品情報
  • 電子部品製造装置 研究開発・小規模生産装置

製品情報

  • 半導体デバイス製造装置
  • ストレージデバイス製造装置
  • 電子部品製造装置
    研究開発・小規模生産装置
    • EB1000  研究開発用スパッタリング装置
    • EB1100  研究開発・小規模生産用スパッタリング装置
    • EC7000シリーズ  小規模生産用スパッタリング装置
    • EL3000シリーズ  LED生産用スパッタリング装置
    • EC7200  SiC活性化用アニール装置(EBAS)
    • EC7400  電子部品生産用スパッタリング装置
    • EL3200  電子部品生産用インライン式スパッタリング装置
  • パネルデバイス製造装置
  • 真空コンポーネント

電子部品製造装置 研究開発・小規模生産装置

真空中で薄膜を形成、加工する技術は、さまざまなデバイス製造工程に利用されています。
LEDやパワーデバイスをはじめ、次世代の技術研究、部品開発から生産までを、キヤノンアネルバの多彩な装置ラインナップがサポートしています。

研究開発用スパッタリング装置

EB1000 研究開発用スパッタリング装置

研究開発・小規模生産用
スパッタリング装置

EB1100 研究開発・小規模生産用スパッタリング装置

小規模生産用スパッタリング装置

EC7000シリーズ 小規模生産用スパッタリング装置

LED生産用スパッタリング装置

EL3000シリーズ LED生産用スパッタリング装置

SiC活性化用アニール装置(EBAS)

EC7200 SiC活性化用アニール装置(EBAS)

電子部品生産用スパッタリング装置

EC7400 電子部品生産用スパッタリング装置

電子部品生産用インライン式
スパッタリング装置

EL3200 電子部品生産用インライン式スパッタリング装置

このページのトップヘ

  • 個人情報保護について

Copyright(C) 2012 CANON ANELVA CORPORATION. All rights reserved.