高真空蒸着装置 EB1900

研究開発装置

オプションにより、カスタマイズ可能な高真空蒸着装置EB1900は、ターボ分子ポンプ排気系を標準装備した高真空排気システムに、E型電子銃や抵抗加熱蒸発源を搭載可能なR&Dに最適な蒸着装置です。

EB1900  高真空蒸着装置

用途

研究開発用

特長

  • 前面開閉式を採用
    基板交換、蒸着試料交換が容易
  • ターボ分子ポンプ排気系
    ターボ分子ポンプがクリーンな真空を提供
    ドライポンプ(粗引き)との組み合わせで排気系のドライ化が可能。(オプション)
  • 豊富なオプション
    各種電子銃、抵抗加熱などの蒸着源、膜厚モニタや蒸発制御機器の組み合わせで幅広い仕様に対応

仕様

チャンパサイズ:
W:400mm×D:400mm×H:780mm(93L)
蒸発源:
2KW単発+2KW電子銃電源
操作方法:
手動操作
設置面積:
W:1,100mm×D:700mm×H:1,800mm(本体)

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