研究開発用スパッタリング装置 EB1000

EB1000  研究開発用スパッタリング装置

研究開発分野のスパッタリング装置は特に材料開発などの目的用途により様々な機能が要求されます。本装置は、キヤノンアネルバの豊富なスパッタリング技術と経験を基に、これらの要求に幅広く対応できるように設計した、低価格で小型の研究開発用スパッタリング装置です。

EB1000  研究開発用スパッタリング装置

用途

研究開発用

特長

  • 小型のφ2インチカソードを3基搭載
    高額材料や焼結体材料などに最適
    3元同時成膜可能(オプション)
  • オフセット回転成膜と静止対向成膜が兼用可能
  • トレイ搬送により多種多様の基板に対応可能
  • 完全自動化された排気操作(タッチパネル操作)
  • オープンフレームによる良好な操作性
  • コンパクト設計により省スペース化を実現

仕様

装置構成:
トレイ搬送方式 (ロードロック(LL)室はオプション)
対応基板サイズ:
最大φ150mm(LL室ありの場合は最大φ100mm)
カソード:
φ2"カソード×3基
操作方法:
排気自動操作、搬送・成膜マニュアル操作
設置面積:
W:1,800mm×D:1,100mm×H:1,550mm(標準仕様)

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