スパッタリング装置 EL3200
(電子部品生産用インライン式スパッタリング装置 EL3200)

電子部品製造装置 研究開発・小規模生産装置

角型トレイを1枚ずつ成膜エリアに搬送して、単層膜や多層膜(最大3層)の成膜を行う事が可能な、水平型インライン式スパッタリング装置です。

EL3200  電子部品生産用インライン式スパッタリング装置

用途

電子部品生産用

特長

  • 生産量に応じて片面成膜(デポUPもしくはデポDOWN)と両面成膜を選択可能
  • 最大3基(片面)のカソードを搭載する事で、積層膜への対応が可能
  • ストッカー室に最大25枚のトレイを収納可能
  • 予備加熱室(前処理用)を増設可能(オプション)

仕様

装置構成:
水平型インライン式
対応基板サイズ:
成膜有効エリア300mm×450mm内
カソード:
5"×16"カソード ×最大3基(片面)

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