磁気ヘッド用スパッタリング装置 HC7100

HC7100  磁気ヘッド用スパッタリング装置

HC7100はGMRヘッド、トンネル効果を利用したTMRヘッド用のスパッタリング装置です。

HC7100  磁気ヘッド用スパッタリング装置

用途

磁気ヘッドの生産

特長

  • 新規スパッタ技術のLRP(Low Pressure Remote Plasma Sputtering)の導入により、±1%以下の優れた膜厚分布を実現
  • 通常のスパッタ圧力より一桁低い0.02Paでの低圧放電により、非常に平坦で低抵抗の膜を実現
  • 超高真空により高いMR比を実現
  • 豊富な成膜モジュールランナップ(多元カソード仕様)

仕様

装置構成:
クラスター式
対応基板サイズ:
φ150mm、φ200mm

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