磁性膜用ドライエッチング装置 HC7400

HC7400  磁性膜用ドライエッチング装置

世界で初めてリアクティブ・イオンエッチング装置を開発したキヤノンアネルバの技術と実績が盛り込まれた、磁性膜用のドライエッチング装置です。

HC7400  磁性膜用ドライエッチング装置

用途

磁気ヘッドの生産

特長

  • 磁性積層膜のマスクとMTJ一貫加工(ドライエッチング)が可能
  • CH3OHガスによる低ダメージ加工プロセス
  • CVDチャンバー増設により加工後の保護膜形成までの一貫処理を実現

仕様

装置構成:
クラスター式
対応基板サイズ:
φ150mm、φ200mm

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